11月3日下午，中国·新昌“天姥英才”第四届高层次人才创新创业大赛总决赛在新昌举行。经过激烈角逐，我院院长袁巨龙教授亲自率团出征，参赛项目“第三代半导体基片高效超精密抛光装备产业化核心技术解决方案”成功入围总决赛，最终获得大赛一等奖的佳绩。

本届大赛自今年8月启动以来，大赛组委会成立了由行业专家、投资专家在内的顾问团队，他们结合产业现状和企业人才需求，深度走访调研50余家专精特新龙头企业，最终吸引了来自多个国家和地区的102个创新创业项目。经过项目初审、分站赛选拔，遴选出10个技术含量高、发展潜力大、落地可能性大的项目晋级总决赛。总决赛获奖项目可优先推荐申报绍兴“名士之乡”英才计划，获得认定项目在落户新昌后可享受最高1000万元的项目资助及人才奖励。

为攻克困扰第三代半导体基片精密抛光效率低、成本高的业界难题，缩小与国外半导体先进加工技术差距，满足国家重大需求，袁巨龙团队在第三代半导体基片精密抛光基础理论、制备方法和生产工艺等方面加强研究，特别是需要加大对半导体及光电领域用先进陶瓷大尺寸、复杂形状制品的研制，探索出“等离子体辅助力流变高效超精密抛光装备”成熟稳定的制备工艺。通过这次参赛争取早日掌握产业化自主技术并实现大规模生产，致力在新昌打造世界一流的超精密抛光基地。

赛后，我院就第三代半导体基片高效超精密抛光装备项目与新昌高新园区达成落地意向，并现场签约。